CVD工艺气体传输控制柜
薄膜沉积、光刻、刻蚀三大工艺是最关键的环节，CVD工艺气体传输控制柜是化学气相沉积（CVD-chemical vapor deposition）工艺中不可或缺的一部分，主要用于精确控制特种气体的传输和供应，确保CVD过程中的气体纯度、稳定性和安全性。
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产品特点
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产品参数
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质量管理
产品特点
高精度流量控制
通过精确的阀门系统和流量控制器，实现对特种气体的精确传输和控制，确保气体流量、压力等参数的稳定性
安全稳定性
气柜配有门互锁开关、压力安全开关、单向阀、火焰报警器等安全部件保证气柜安全。同时，设备采用防爆、防腐等设计，提高了设备的安全性能
高气密性
产品采用IGS和VCR接口形式实现半导体设备的高气密性
高洁净度
采用高精度过滤器能够去除3nm以上的颗粒杂质
安全认证
通过SEMI S6测试安全认证
产品参数
| 外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保压测试50psi | 氮气保压测试, 保压12h,压降 ≤1% |
| 氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可选） |
| 颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧测试 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可选） |
质量管理
必威betway中文版入口质量管理秉承"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、过程全生命周期质量管理关注各环节中入口质量、过程质量、出口质量,以保证整体质量可控,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产品更具竞争力。
